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    中藥濕法粉碎機

    產(chǎn)品型號: CMSD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥109800.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細(xì)信息
     品牌:IKN  型號:CMSD2000  單次產(chǎn)量:1000 kg/h 
     粉碎細(xì)讀:10000 目 電壓:380 V/Hz 轉(zhuǎn)速:21000 r/min 
     重量:45 kg 體積:100 m3 電機功率:11 W 
     適用范圍:10000  粉碎程度:超細(xì)磨機  物料含水量:90  
     最大物料硬度:8  出料粒度<:0.001 mm 進料粒度<:1 mm 
    中藥濕法粉碎機,中藥粉碎機,中藥高速粉碎機是 轉(zhuǎn)速***高可達14000rpm,配備ABB變頻電機,研磨分散機是IKN研發(fā)工程師將膠體磨與分散機整合研發(fā)出來的一款新產(chǎn)品,此款產(chǎn)品是目前市場上僅有的一款同時具備研磨、分散、乳化等多功能的一款研磨分散設(shè)備,研磨分散機是IKN與實驗客戶共同智慧的結(jié)晶。
     
    因為好多物料單用一種膠體磨或分散機是無法達到客戶所要求的理想粒徑要求已經(jīng)分散效果要求。IKN客戶在IKN實驗室實驗室做完實驗后經(jīng)常會遇到這樣的痛苦,物料已經(jīng)用N多種國產(chǎn)研磨設(shè)備處理過了,達不到效果,***后放下國產(chǎn)設(shè)備的價格優(yōu)勢找到中德合作的IKN,雖然IKN研磨分散設(shè)備制造精密,但也不是萬能的,有些物料例如硬脂酸鈣還有茶葉鮮葉還是不能處理到客戶理想要求(硬脂酸鈣處理到2-3μm,茶葉鮮葉處理到200目),在客戶要求IKN重新做處理方案時,IKN研發(fā)工程師協(xié)同客戶一起研發(fā)出了研磨分散機,IKN公司總經(jīng)理為研磨分散機定型號為CMD2000系列。研磨分散機的研制,成功解決了原有設(shè)備粒徑處理不理想的問題。
     
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    用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。 
    研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
    *級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
     
    設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
    電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
    電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
    研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
    研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
    研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
    進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
    研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
    膠體磨 流量* 輸出 線速度 功率 入口/出口連接
    類型 l/h rpm m/s kW  
    CMD 2000/4 300 9,000 23 2.2 DN25/DN15
    CMD 2000/5 1000 6,000 23 7.5 DN40/DN32
    CMD 2000/10 200 4,200 23 22 DN80/DN65
    CMD 2000/20 5000 2,850 23 37 DN80/DN65
    CMD 2000/30 8000 1,420 23 55 DN150/DN125
    CMD2000/50 15000 1,100 23 110 DN200/DN150
    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到***大允許量的10%。
    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。
    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
    4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準(zhǔn)。


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