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    高溫氧化物超導體研磨分散機

    產品型號: CMSD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-29
    詳細信息
     型號:CMSD2000  品牌:IKN  工作方式:顆粒研磨機  
     適用物料:氧化物超導體  應用領域:化工  加工批量:1000  
     驅動功率:11 kw 研磨籃容量:10  介質尺寸:10  
     行程:10  外形尺寸:10 m 重量:200 kg 
     驅動方式:電動  作用對象:鋸刀  重量:200 kg 
    高溫氧化物超導體研磨分散機,鑭鋇銅氧[(LaBa)2CuO4]研磨分散機、釔鋇銅氧(YBaCuO)研磨分散機i、鉍鍶鈣銅氧(BiSrCaCuO)、鉈鋇鈣銅氧(TlBaCaCuO)、汞鋇鈣銅氧(HgBaCaCuO)、釹鈰銅氧[(NdCe)2CuO4]及鍶鑭銅氧[(SrLa)CuO2]研磨分散機是電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

    高溫氧化物超導體的晶體結構比常規(guī)超導體復雜,結構特征與高溫超導電性有密切關系。高溫氧化物超導體中缺陷是本征的,而且相干長度很短,只有納米量級,因此高溫超導電性不僅與材料的平均結構有關,對局部精細結構(如非計量配比氧含量、調制結構、陽離子無序分布、孿晶及其他短程序結構等)也都十分敏感。 
      高溫氧化物超導體有共有的結構特征,均屬于ABO3鈣鈦礦型結構的衍生物,它們的組分可通過元素替代在很寬的范圍內發(fā)生變化,結構中或多或少地存在著氧缺位和A晶位陽離子缺位。高溫氧化物超導體具有層狀結構,晶體原胞均由單層或多層CuO2面和一些插入層組成。CuO2面為導電層,對超導電性和正常態(tài)輸運性質起關鍵作用。CuO2面為完整的四角結構,化學組成單純;插入層為結構上不完整的載流子庫層,或者化學組分不單純,通過元素化學取代,替代陽離子或改變氧含量,為CuO2面提供載流子。如(LaSr)2CuO4的導電層CuO2面被具有NaCl結構的La2O2插入層所夾。YBa2Cu3O7的導電層由Y原子隔開的兩個CuO2面組成,插入層是BaO–CuO–BaO。

    高溫氧化物超導體研磨分散機,鑭鋇銅氧[(LaBa)2CuO4]研磨分散機、釔鋇銅氧(YBaCuO)研磨分散機i、鉍鍶鈣銅氧(BiSrCaCuO)、鉈鋇鈣銅氧(TlBaCaCuO)、汞鋇鈣銅氧(HgBaCaCuO)、釹鈰銅氧[(NdCe)2CuO4]及鍶鑭銅氧[(SrLa)CuO2]研磨分散機
     

    化作用一般來說要強于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。 

    研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

    *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

    研磨分散機應用領域:

    化學工業(yè):油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,石墨烯,碳納米管,富勒烯,凝膠,溶膠,壓裂液 催化劑 纖維  等。 
    食品工業(yè):蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品,麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬,蛋黃醬,沙拉醬,奶酪 食用菌絲,大豆蛋白粉 豆粕等

    日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
    醫(yī)藥工業(yè):各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮,膠囊,微球,口服混懸液,動物組織破壁,纖維素 等。 
    建筑工業(yè):各種涂料。包括內外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 
    其它工業(yè):塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)優(yōu)質環(huán)保的生產需要 。

    新能源材料:石墨烯、石墨烯涂料、石墨烯超級電容、石墨烯潤滑油、  碳納米管 、碳纖維、   鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等

     

    設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
    電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
    電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
    研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
    研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
    研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
    進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍
    研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    700

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    8000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    80000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到*大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產品的要求。
    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。
    高溫氧化物超導體研磨分散機,鑭鋇銅氧[(LaBa)2CuO4]研磨分散機、釔鋇銅氧(YBaCuO)研磨分散機、鉍鍶鈣銅氧(BiSrCaCuO)、鉈鋇鈣銅氧(TlBaCaCuO)、汞鋇鈣銅氧(HgBaCaCuO)、釹鈰銅氧[(NdCe)2CuO4]及鍶鑭銅氧[(SrLa)CuO2]研磨分散機
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