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甘草高速研磨分散機(jī)
詳細(xì)信息型號(hào):CMSD2000 品牌:IKN 工作方式:顆粒研磨機(jī) 適用物料:甘草 應(yīng)用領(lǐng)域:食品,醫(yī)藥,化工 加工批量:1000 驅(qū)動(dòng)功率:30 kw 研磨籃容量:1000 介質(zhì)尺寸:100 行程:10 外形尺寸:1-1-1 m 重量:400 kg 驅(qū)動(dòng)方式:電動(dòng) 作用對(duì)象:鋸刀 重量:400 kg 甘草研磨分散機(jī),甘草研磨機(jī),甘草膠體磨,研磨分散機(jī),IKN膠體磨,IKN研磨分散機(jī),上海研磨分散機(jī),甘草濕法粉碎機(jī),甘草粉碎機(jī)
甘草粉碎需要浸泡的時(shí)間比較長(zhǎng),而且甘草比較難打細(xì),對(duì)國(guó)內(nèi)現(xiàn)有的設(shè)備來(lái)說(shuō),這是一個(gè)難點(diǎn)。上海依肯根據(jù)客戶的分散要求,推薦使用CMD2000研磨分散機(jī),分散之后的粒徑在1mm以下,縮短了浸泡時(shí)間,大大提高了甘草的回收利用率。
甘草研磨分散機(jī)的工作原理:CMD研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究*新研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。
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CMD2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn):
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
CMD2000系列設(shè)備選型表
型號(hào)
流量
L/H
轉(zhuǎn)速
rpm
線速度
m/s
功率
kw
入/出口連接
DN
CMD2000/4
300
9000
23
2.2
DN25/DN15
CMD2000/5
1000
6000
23
7.5
DN40/DN32
CMD2000/10
2000
4200
23
22
DN80/DN65
CMD2000/20
5000
2850
23
37
DN80/DN65
CMD2000/30
8000
1420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
15000
1100
23
110
DN200/DN150
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。
1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2.處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。
3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).
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