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頭孢噻呋鈉膠體磨，頭孢噻呋鈉，頭孢噻呋鈉高速膠體磨

產(chǎn)品型號：

CM2000

品牌：

IKN

≧1 臺
￥108900.00

所在地：

上海松江區(qū)

更新日期：

2024-12-16

詳細(xì)信息

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品牌：IKN	型號：CM2000	工作方式：顆粒研磨機(jī)
類型：轉(zhuǎn)軸式研磨機(jī)	適用物料：乳化液，懸浮液	應(yīng)用領(lǐng)域：醫(yī)藥
加工批量：100	驅(qū)動(dòng)功率：2.2 kw	研磨籃容量：2 L
介質(zhì)尺寸：0.2 mm	行程：2000 mm	外形尺寸：500*230 m
重量：230	行程：2000 mm	外形尺寸：500*230 m

頭孢噻呋鈉膠體磨，頭孢噻呋鈉，頭孢噻呋鈉高速膠體磨是有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎效果上海依肯機(jī)械設(shè)備

頭孢噻呋鈉是頭孢菌素類獸醫(yī)臨床專用抗生素，為廣譜抗菌藥。對革蘭氏陽性菌和革蘭氏陰性菌均有較強(qiáng)的抗菌作用。頭孢噻呋作用于轉(zhuǎn)錄肽酶而阻斷粘肽的合成，使細(xì)菌細(xì)胞壁缺失而達(dá)到殺菌作用。頭孢噻呋具有穩(wěn)定的β－內(nèi)酰胺環(huán)，不易被耐藥菌破壞，可作用于產(chǎn)β－內(nèi)酰胺酶的革蘭氏陽性菌和革蘭氏陰性菌。

頭孢噻呋鈉混懸液是頭孢噻呋鈉的混懸液要求
按Stokes定律要求，混懸劑中微粒濃度應(yīng)在2%以下。但實(shí)際上常用的混懸劑濃度均在2%以上。此外，在沉降過程中微粒電荷的相互排斥作用，阻礙了微粒沉降，故實(shí)際沉降速度要比計(jì)算得出的速度小得多。由Stokes定律可見，混懸微粒沉降速度與微粒半徑平方、微粒與分散介質(zhì)密度差成正比，與分散介質(zhì)的粘度成反比。混懸微粒沉降速度愈大，混懸劑的動(dòng)力學(xué)穩(wěn)定性就愈小。
頭孢噻呋鈉混懸液膠體磨的粉碎效果
  超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，CM在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。CM2000整機(jī)采用*佳幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，*好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
IKN膠體磨，醫(yī)藥膠體磨，高剪切膠體磨，頭孢膠體磨與國內(nèi)膠體磨的性能比較：
一、轉(zhuǎn)速和剪切速率：
IKN膠體磨，可選擇德國機(jī)械密封，轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)
F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
國內(nèi)膠體磨，可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn)，大約在14293-215440 S-1
通過轉(zhuǎn)速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當(dāng)于前者是后者的2-3倍
二、膠體磨頭和間距：
IKN膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實(shí)現(xiàn)多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。
間距可調(diào)，可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工
國內(nèi)膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細(xì)度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差
三、機(jī)械密封：
IKN膠體磨，雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)
國內(nèi)膠體磨，單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀
四、清洗：
IKN膠體磨，立式，皮帶驅(qū)動(dòng)，易于維護(hù)，可有效保護(hù)馬達(dá)及齒輪箱，防止損壞,符合流體流動(dòng)原理，具有CIP/SIP在線清洗，在線殺菌功能，無需拆卸，機(jī)器設(shè)計(jì)無死角，立式結(jié)構(gòu)符合流體原理，清洗更簡便
國內(nèi)膠體磨，臥式或立式（馬達(dá)一體式），軸承部分受力較大，易于損壞，維護(hù)保養(yǎng)復(fù)雜，
通常情況，需要拆卸機(jī)器進(jìn)行清洗
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