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IKN無(wú)菌膠原貼敷料濕法高速分散機(jī)、醫(yī)藥級(jí)敷料均質(zhì)分散機(jī)CMSD
詳細(xì)信息品牌:IKN 類型:剪切分散機(jī) 物料類型:液-液 適用物料:藥品 應(yīng)用領(lǐng)域:醫(yī)藥 型號(hào):CMSD 速度類別:有級(jí)變速 調(diào)速范圍:1-21000 r/min 分散輪直徑:55 mm 升降行程:100 mm 電機(jī)功率:4 Kw 變速方式:變頻變速 罐容量:1000 L 外形尺寸:111 mm 整機(jī)重量:45 kg 無(wú)菌膠原貼敷料濕法高速分散機(jī)、醫(yī)藥級(jí)敷料均質(zhì)分散機(jī)、皮膚涂抹膏劑濕磨高剪切分散機(jī)、祛痕祛印敷料研磨分散機(jī)、高膠原蛋白敷料研磨分散機(jī) 隨著生活水平的提高,人們對(duì)美 的需求也越來(lái)越高。 雖然膠原貼敷料在 醫(yī)學(xué)美容皮膚科治療上的臨床應(yīng)用剛剛開(kāi)始 ,但因其療效確切 ,依從性好 ,不良反應(yīng)少 ,安全性好等優(yōu)點(diǎn) ,且其臨床應(yīng)用也有明確 的理論依據(jù) ,所以得到了廣大臨床醫(yī)生和患者的認(rèn)可。
性能特點(diǎn)
面部皮膚過(guò)敏是臨床上常見(jiàn) 的皮膚病 ,臨床表現(xiàn)以顏面出現(xiàn)紅斑、丘疹 、水皰 、皮膚干燥增厚為主并伴有瘙癢、灼熱或疼痛。 其發(fā)病是因各種原因產(chǎn)生反應(yīng)而導(dǎo)致皮膚的炎癥 ,引起細(xì)胞受損 ,組織結(jié)構(gòu)改變 ,而產(chǎn)生一系列的臨床表現(xiàn)。 膠原蛋 白貼敷料對(duì) 面部過(guò)敏性皮炎如脂溢性皮炎、日光性皮炎、接觸性皮炎 、濕疹等治療效果 明顯 ,體現(xiàn)在 自覺(jué)瘙癢癥狀減輕 ,皮損面積下降、紅斑及丘疹明顯消退。
目前,膠原的提取方法主要有堿法、酸法、鹽法及酶法。酸酶混合法是目前生產(chǎn)上常用的提取方法,膠原產(chǎn)品療效在臨床應(yīng)用上進(jìn)一步證明了其有效性及安全性,因此,臨床上對(duì)于此類產(chǎn)品的需求量迅速上升且對(duì)產(chǎn)品的安全性提出了更高的要求,目前企業(yè)能夠規(guī);a(chǎn)膠原相關(guān)產(chǎn)品,但產(chǎn)品多數(shù)只能以達(dá)到微生物限度級(jí)別,即使少數(shù)能夠達(dá)到無(wú)菌級(jí)別,但也只能以干品的形式提供給臨床應(yīng)用,導(dǎo)致了液體膠原類產(chǎn)品在臨床上的應(yīng)用受到限制。
無(wú)菌膠原貼敷料的制備方法為將動(dòng)物的筋腱進(jìn)行脫脂、切片、消毒、粉碎,再進(jìn)行酸溶酶解、離心去沉淀得膠原原液;再調(diào)整膠原原液的濃度和粘度后,進(jìn)行超濾純化和濃縮得高純度高濃度的膠原液;將其冷凍干燥、粉碎、輻照滅菌后進(jìn)行配液裝入含有非織造布鋁箔袋中即可。本發(fā)明保持了膠原的活性,避免了膠原因輻照而變性或者發(fā)生交聯(lián)反應(yīng);本發(fā)明采用超濾純化代替?zhèn)鹘y(tǒng)的透析純化,縮短了純化的時(shí)間;采用自動(dòng)化系統(tǒng)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的半自動(dòng)操作,避免了人手污染,保證了產(chǎn)品的潔凈度、純度、生物活性。
依肯研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
CM2000系列膠體磨是專門(mén)為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì),特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000膠體磨的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 IKN公司另外一項(xiàng)獨(dú)特的創(chuàng)新,就是錐體磨CMSD2000系列,它的設(shè)計(jì)使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步。由于這項(xiàng)創(chuàng)新,CMSD2000能夠濕磨和研磨,產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無(wú)級(jí)調(diào)節(jié),從而可以得到精確的研磨參數(shù)。
研磨頭的表面涂上了一層極其堅(jiān)硬的硬質(zhì)材料,從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成,并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個(gè)具有強(qiáng)烈剪切的區(qū)域,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和后的粒徑大小都比膠體磨的效果更加理想。
無(wú)菌膠原貼敷料濕法高速研磨分散機(jī)技術(shù)參數(shù)
CMSD2000 系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào)
流量
L/H轉(zhuǎn)速
rpm線速度
m/s功率
kw入/出口連接
DNCMSD2000/4
300
14000
41
4
DN25/DN15
CMSD2000/5
1000
10500
41
11
DN40/DN32
CMSD2000/10
4000
7200
41
22
DN80/DN65
CMSD2000/20
10000
4900
41
45
DN80/DN65
CMSD2000/30
20000
2850
41
90
DN150/DN125
CMSD2000/50
60000
1100
41
160
DN200/DN150
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10% -
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