新型催化劑漿料高速粉碎破碎打漿膠體磨，新型催化劑漿料高速粉碎膠體磨 ，催化劑高速膠體磨，催化劑漿料高速粉碎  膠體磨   

保護環(huán)境和地球上有限的資源，好的辦法是不產(chǎn)生污染物，為此，從產(chǎn)生這些污染物的化學(xué)反應(yīng)的本身去尋找解決環(huán)境污染的辦法。治理“三廢”的環(huán)境保護方法實際上有兩大類：一類是對排放污染源的處理，也就是傳統(tǒng)意義上的“末端治理”法，即將排放污染源中的毒物降解成的或毒性小的物質(zhì)，使其符合環(huán)境法法規(guī)的要求再行排放。另一類是對產(chǎn)生污染源的整個工藝過程進行，這就是現(xiàn)在提倡的綠色化工的內(nèi)涵，即盡量不使用有毒、有害的原料和溶劑，從而實現(xiàn)毒物和廢棄物的零排放，并使生成的產(chǎn)物可以重復(fù)利用。然而，無論環(huán)境污染的“末端治理”法，還是綠色化工的實施，都離不開催化劑。

近一二十年來，光催化、電催化、聲催化、生物催化等一系列新穎的催化技術(shù)和新材料相繼問世，多種催化方式的組合應(yīng)用技術(shù)應(yīng)運而生，有些組合催化系統(tǒng)已經(jīng)在實際中發(fā)揮著的作用

如

來的浸漬漿液中含有金屬氧化物、脫鹽水和膠液，在進入下一段工序之前，需使浸漬漿液中的金屬氧化物和膠液形成的混合物顆粒粒徑達到要求，分布均勻，而上工序攪拌時會產(chǎn)生結(jié)塊現(xiàn)象，膠體磨的主要目的是將浸漬漿液中混合物結(jié)塊經(jīng)過研磨，使得浸漬漿液中比較大的顆粒被研磨打碎成顆粒分布均勻的小顆粒，然后通過后續(xù)噴霧干燥工段，以得到粒度大小合格、分布均勻的產(chǎn)品。膠體磨的安裝位置在浸漬漿液儲槽入口的管線上。

膠體磨連續(xù)操作。

可以采用類似山東金能白炭黑的工藝要求 說明一下

2、基礎(chǔ)條件

2.1介質(zhì)名稱：浸漬漿液

2.2介質(zhì)溫度：40℃

2.3介質(zhì)壓力：常壓

2.4介質(zhì)黏度：1000mPa.s

2.5處理量：3000kg/h

2.6 出料粒度：<3µm

好要了解固含量   ,如果太大,可能型號要變大,另外強調(diào)的研磨出料粒度：<3µm,可能是國內(nèi)的許多廠家達不到的要求

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根據(jù)一些行業(yè)的te殊要求, IKN 在CM2000系列膠體磨的基礎(chǔ)上又開發(fā)了一款CMS2000X速膠體磨，轉(zhuǎn)子的線速度可以da到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒徑分布更小。

       chaoX速膠體磨的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。 

       CMS2000的線速度很高，剪切間隙fei常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款X速膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度da到3bei以上,X大的轉(zhuǎn)速可以da到14000RPM。所以可以da到更好的分散濕磨效果。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。2 處理量取決于物料的粘度，稠度和#終產(chǎn)品的要求。3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，bi須提供準確的參數(shù)，以便選型和定制。

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