高分子導(dǎo)熱材料高剪切研磨分散機(jī)總體可以分為兩類(lèi)非固化的導(dǎo)熱膏和固化的導(dǎo)熱膠/片。其中，導(dǎo)熱膏應(yīng)用工藝簡(jiǎn)單，操作快捷方便，涂裝效率高，容易跟上電子行業(yè)生產(chǎn)節(jié)拍，應(yīng)用計(jì)較廣泛。但是，目前市場(chǎng)上的導(dǎo)熱膏有效壽命普遍較短，在電子器件反復(fù)升溫降溫過(guò)程中小分子逐漸揮發(fā)滲出，除了污染器件外，導(dǎo)熱膏本身因?yàn)槌煞直壤�變化而逐漸干裂粉化脫落，導(dǎo)熱效果降低，嚴(yán)重影響電子產(chǎn)品的使用性能和壽命。

乙烯基有機(jī)硅樹(shù)脂、固化劑、消泡劑、引發(fā)劑、稀釋劑、催化劑

傳統(tǒng)的高速分散機(jī)（轉(zhuǎn)速2930轉(zhuǎn)）也即是高速攪拌機(jī)，是將攪拌機(jī)插入罐中對(duì)物料進(jìn)行高速攪拌，由于這只是一個(gè)局部的攪拌，剪切中作用力弱、對(duì)物料的剪切頻率少，因此常會(huì)抱團(tuán)、分層、分散不均，影響產(chǎn)品品質(zhì)及性能，而上海依肯高速納米分散機(jī)是將物料進(jìn)行一個(gè)全局chong分的混合分散剪切，物料從儲(chǔ)料罐中進(jìn)入到工作腔體進(jìn)行360度高頻次的剪切、分散、撞擊、摩擦，因此物料更細(xì)、分散穩(wěn)定性更好。當(dāng)然還有設(shè)備加工經(jīng)度、物料粘稠度、物料原始粒徑、溫度、是否有添加劑等眾多影響因素

上海IKN技術(shù)，du特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來(lái)CM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤(pán)（均質(zhì)盤(pán)、乳化盤(pán)）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱(chēng)為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

高分子導(dǎo)熱材料高剪切分散機(jī)是一款集研磨和分散一體化的設(shè)備，是一項(xiàng)新的技術(shù)革新。研磨分散機(jī)是將膠體磨（錐體磨）+高剪切分散機(jī)一體化的設(shè)備，先研磨后分散，物料研磨后又瞬間進(jìn)行分散，避免了物料的二次團(tuán)聚。

Ikn研磨分散機(jī)設(shè)備結(jié)構(gòu)：
第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%