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    德國IKN均勻分散不沉降無機材料納米氧化鋁催化劑水性漿料研磨機CMSD2000

    產(chǎn)品型號: CMSD2000
    品  牌: 德國IKN
    • ≧1 臺
      ¥238500.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細信息
     型號:CMSD2000  品牌:德國IKN  工作方式:高速萬能研磨機  
     適用物料:流體漿料  應用領域:化工新能源  加工批量:100  
     驅動功率:11 kw 研磨籃容量:1  介質尺寸:12  
     行程:1  外形尺寸:1 m 重量:260 kg 
     驅動方式:電動  作用對象:鋸刀  重量:260 kg 

    均勻分散不沉降無機材料納米氧化鋁催化劑水性漿料研磨機具有設計緊湊、實用新型,外形美觀、密封良好、性能穩(wěn)定、操作方便、裝修簡單、經(jīng)久耐用、適應范圍廣、生產(chǎn)效益高等特點、是處理精細物料*理想的加工設備。

     

    氧化鋁的核心應用

     

    氧化鋁具有硬度高、化學穩(wěn)定性好等優(yōu)點,已被廣泛應用在陶瓷、無機膜、研磨拋光材料等領域。用作分析試劑、有機溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。

     

    氧化鋁的分散問題

     

    近年來,已將超細氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復合材料受到人們的廣泛關注。但超細氧化鋁粉體比表面積大,表面活性高,單個超細顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài),顆粒之間因為相互吸引而團聚,易于失去超細粉體特有的性能,因此超細氧化鋁粉體的分散,是超細氧化鋁粉體走向實用化的關鍵。

    在水溶液中,氧化鋁漿料中的亞微米機微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團聚,出現(xiàn)絮凝,分層等現(xiàn)象,破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點。影響穩(wěn)定性的因素有很多,如:分散劑種類及用量、分散設備的選擇、粉體的粒度及表面性質、PH值、溫度等。

     

    當物料工藝確定后,影響分散穩(wěn)定性的唯一因素就是漿料中粒子的半徑,半徑越小,沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質的分散設備,來獲得更好的物料粒徑,提高分散的均勻性,推薦CMSD2000系列研磨分散機,獨特的結構,膠體磨+分散機一體化設備,14000rpm超高轉速,效果好、效率高。

     

    氧化鋁水性漿料分散設備推薦

     

    結合多家化工企業(yè)案例,我司推薦CMSD2000系列研磨式超高速分散機進行氧化鋁的研磨和分散,一般可獲得超細的物料粒徑,一般為1μm左右。當然還要看具體的物料工藝,以及原始狀態(tài)。

     

    從設備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

    1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

    2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

    3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

    4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

    5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)

     

     

    CMD2000系列研磨分散機設備選型表
     

    型號

    流量

    L/H

    轉速

    rpm

    線速度

    m/s

    功率

    kw

    入/出口連接

    DN

    CMD2000/4

    300

    9000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD2000/5

    1000

    6000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD2000/10

    2000

    4200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD2000/20

    5000

    2850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD2000/30

    8000

    1420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    15000

    1100

    23

    110

    DN200/DN150

     

    流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節(jié)到zui大允許量的10%

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