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德國IKN噴霧干燥前高分散性白炭黑打漿研磨膠體磨機CMSD2000
詳細信息| 詢價留言型號:CMSD2000 品牌:德國IKN 工作方式:高速萬能研磨機 適用物料:流體漿料 應用領域:化工新能源 加工批量:100 驅(qū)動功率:11 kw 研磨籃容量:1 介質(zhì)尺寸:12 行程:1 外形尺寸:1 m 重量:260 kg 驅(qū)動方式:電動 作用對象:鋸刀 重量:260 kg 噴霧干燥前高分散性白炭黑打漿研磨膠體磨機透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被you xiao地乳化、分散和粉碎,da到物料超細粉碎及乳化的效果。
白炭黑(SiCh·nHzo)是一種無定形粉狀物,不溶于水和酸,溶于氫氧化鈉及氫FU酸。性能與炭黑相似,呈白色。自炭黑的宏觀結構類似于炭黑,粒子呈球狀,單個粒子之間以面相
接觸,呈鏈狀聯(lián)結結構(二次結構)[1‘2]。聯(lián)結結構以氫鍵相作用,形成聚集體。原始粒子極微細,質(zhì)輕,在空氣中吸收水分后成為聚集的細顆粒D]。因白炭黑具有很高的電絕緣性、多
孑L性和吸水性,其原始顆粒粒徑極小,故比表面積大,具有很好的補強和增粘作用以及良好的分散、懸浮和振動液化特性,是一種硅系列補強材料,廣泛應用于橡膠、硅橡膠、催化劑
載體、塑料、涂料、醫(yī)藥、日用化工等諸多行業(yè)。目前,普通白炭黑的生產(chǎn)方法總的來講有兩種,氣相法和沉淀法。氣相法生產(chǎn)的白炭黑一般物化性能都很好,其粒子小、比表面積大、表面活性強等重要性質(zhì)都很理想。但氣相法生產(chǎn)白炭黑的原料昂貴,設備要求高,技術復雜,產(chǎn)量低。沉淀法白炭黑的制備大多采用硫酸或鹽酸溶液與硅酸鈉溶進行化學反應,此法所制得的沉淀白炭黑的性能比較優(yōu)良,
CMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
研磨分散機的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
從設備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
CMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號
流量
L/H
轉(zhuǎn)速
rpm
線速度
m/s
功率
kw
入/出口連接
DN
CMD2000/4
300
9000
23
2.2
DN25/DN15
CMD2000/5
1000
6000
23
7.5
DN40/DN32
CMD2000/10
2000
4200
23
22
DN80/DN65
CMD2000/20
5000
2850
23
37
DN80/DN65
CMD2000/30
8000
1420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
15000
1100
23
110
DN200/DN150
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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