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    硫酸頭孢喹肟注射液研磨分散機(jī)

    產(chǎn)品型號(hào): CMSD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺(tái)
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-10-29
    詳細(xì)信息
     型號(hào):CMSD2000  品牌:IKN  工作方式:顆粒研磨機(jī)  
     適用物料:硫酸頭孢喹肟注射液  應(yīng)用領(lǐng)域:醫(yī)藥  加工批量:100  
     驅(qū)動(dòng)功率:11 kw 研磨籃容量:1000  介質(zhì)尺寸:50  
     行程:1000  外形尺寸:1X1X2 m 重量:200 kg 
     驅(qū)動(dòng)方式:電動(dòng)  作用對(duì)象:鋸刀  重量:200 kg 
    硫酸頭孢喹注射液研磨分散機(jī),硫酸頭孢喹肟研磨機(jī),硫酸頭孢喹肟分散機(jī),硫酸頭孢喹肟膠體磨是,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

    硫酸頭孢喹注射液  本品為硫酸頭孢喹肟與油酸乙酯等配制而成的混懸注射液。含頭孢肟(C23H24N6O5S2)應(yīng)為標(biāo)示量的90.0%~105.0%
     

     本品為類(lèi)白色至淺褐色混懸液體;久置分層。

    顆粒直徑100%小于50um。其中D95<20um,D90<10um,D80<5um.
      將頭孢喹肟原料藥加入至乳化罐,加適量三乙酸甘油酯,經(jīng)批次式乳化機(jī)進(jìn)行分散均勻,加入丙二醇,混合均勻。


    機(jī)的細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī),但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場(chǎng)合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。 

    研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

     硫酸頭孢喹注射液研磨分散機(jī) 的參數(shù)

    研磨分散機(jī)

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類(lèi)型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    8000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    120000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

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