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芳綸III漿料研磨分散機

產(chǎn)品型號：

CMD2000

品牌：

依肯

≧1 臺
￥108900.00

所在地：

上海松江區(qū)

更新日期：

2024-10-31

詳細(xì)信息

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型號：CMD2000	品牌：依肯	工作方式：高速萬能研磨機
適用物料：化工化妝品食品藥品	應(yīng)用領(lǐng)域：化工化妝品食品藥品	驅(qū)動功率：2.2-110 kw
重量：55 kg	驅(qū)動方式：電機	作用對象：銑刀

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詳情請聯(lián)系公司銷售工程師聶倩文 QQ ---

芳綸Ⅲ是對位芳綸的一種。因其是由對苯二胺、對苯二甲酰氯及含有雜環(huán)結(jié)構(gòu)的二胺三種單體共縮聚得到的，故稱芳綸Ⅲ，因其含有雜環(huán)結(jié)構(gòu)，也稱雜環(huán)芳綸。芳綸Ⅲ和全對位芳綸（如Kevlar、Twaron等）在結(jié)構(gòu)、制備工藝及性能方面都存在*不同，芳綸Ⅲ因其獨特的分子結(jié)構(gòu)和工藝技術(shù)而具有低密度、超高強度、超高模量、耐高溫、抗沖擊性好、耐磨性好、透波性好等優(yōu)良性能，是綜合性能***好的有機纖維之一，在飛機部件(螺旋槳、輪胎、機身、主翼、尾翼等部位)、星載/機載/艦載雷達(dá)罩、衛(wèi)星部件、防彈材料（高級防彈衣、防彈頭盔、防彈護(hù)甲）、儀器防艙、電力電信、輸送材料、體育用品等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。
目前，具備雜環(huán)芳綸批產(chǎn)能力的只有俄羅斯和中國。雜環(huán)芳綸因原料成本高、生產(chǎn)效率低、應(yīng)用開發(fā)受限等問題導(dǎo)致產(chǎn)品價格居高不下，只在軍工和少數(shù)民用高端領(lǐng)域應(yīng)用。未來隨著技術(shù)進(jìn)步和需求增加，雜環(huán)芳綸價格會逐漸降低。

芳綸Ⅲ作為一種綜合性能***好的輕質(zhì)高強材料之一，廣泛應(yīng)用于國防軍工和現(xiàn)代工業(yè)等領(lǐng)域，其應(yīng)用形式主要有纏繞、UD、織物等。例如，芳綸Ⅲ UD預(yù)浸料可以用于飛機尾翼、腹鰭、機艙、安全防護(hù)、復(fù)合裝甲等制件的制備；織物可用于機載、艦載雷達(dá)罩、防彈頭盔等；纏繞可用于火箭發(fā)動機、壓力容器、隔爆裝置、鈾濃縮離心機等。主要***終應(yīng)用領(lǐng)域如下：
1、航空航天。航空航天領(lǐng)域?qū)Ψ季]Ⅲ纖維的需求強勁，主要用于發(fā)動機殼體、飛機構(gòu)件、雷達(dá)罩、儀器房艙等方面。
2、防彈裝甲。芳綸Ⅲ在防彈裝甲領(lǐng)域主要用于反恐裝備、坦克和裝甲車裝甲、武裝直升機和戰(zhàn)斗機護(hù)甲、艦船護(hù)甲、車船載儀器房艙、VIP防彈衣等方面。
3、橡膠增強。飛機輪胎增強方面，芳綸Ⅲ具有優(yōu)異的耐高低溫性能、耐磨性等，同時具有和橡膠一致的彈性伸長，因此是高檔輪胎理想的增強材料；遠(yuǎn)距離輸送用膠管增強也是芳綸Ⅲ的優(yōu)勢領(lǐng)域之一。
4、電子信息。芳綸Ⅲ纖維具有高強高模特性，可以用于光纖/光纜增強，尤其適用于遠(yuǎn)距離、大張力光纖/光纜。
5、核工業(yè)及其他。芳綸Ⅲ可以用于高速離心機殼體、醫(yī)療用核磁共振核心部件等。

◆ 研磨分散機: 高剪切分散機的核心部件是定子/轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應(yīng)帶來強勁的動能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械剪切、液力剪切、離心擠壓、液層磨擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝的條件下，瞬間均勻精細(xì)地分散，經(jīng)過高頻的循環(huán)往復(fù)，***終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。與三輥機、球磨機、砂磨機相比，研磨分散機具有效率高、能耗低等顯著優(yōu)點，是分散工藝的首選。

納米材料研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

1 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	1000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	3000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	8000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	20000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	60000	1,100	23	110	DN200/DN150
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到**大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和***終產(chǎn)品的要求。

3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。

納米材料研磨分散機,德國納米材料研磨分散機

設(shè)備特點

⑴CMD設(shè)備與傳統(tǒng)設(shè)備相比：

高效、節(jié)能

傳統(tǒng)設(shè)備需8小時的分散加工過程，CMD設(shè)備1小時左右完成，超細(xì)分散效果顯著，能耗*降低；

高速、高品質(zhì)

傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn)，帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi)，只完成宏觀分散加工，超細(xì)分散能力極為有限；ERS設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000～15000轉(zhuǎn)之間，超高線速度產(chǎn)生的剪切力，瞬間超細(xì)分散漿料中的粉體。

⑵CMD設(shè)備與同類設(shè)備相比：

多層多向剪切分散

同類設(shè)備的定轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一，多級多層的結(jié)構(gòu)是單純重復(fù)性加工，相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過工作腔的短路現(xiàn)象；

CMD設(shè)備的定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切概念，裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向剪切分散，杜絕了短路現(xiàn)象，超細(xì)分散更為徹底。