氫氧化鋁阻燃劑分散機，氫氧化鋁漿料分散機，阻燃劑分散機，氫氧化鋁研磨分散機，ATH阻燃劑分散機，氫氧化鋁阻燃劑漿料生產(chǎn)設(shè)備，氫氧化鋁阻燃劑生產(chǎn)設(shè)備，氫氧化鋁阻燃劑研磨分散機，阻燃劑漿料生產(chǎn)設(shè)備，進口納米研磨分散機設(shè)備，阻燃劑漿料研磨分散機上海IKN分散設(shè)備，膠體磨+分散機的獨特設(shè)計，處理物料粒徑更小，分散更均勻。

氫氧化鋁作為阻燃劑具有許多獨特的優(yōu)點，且來源豐富，價格低廉，應(yīng)用范圍廣，品種多。但也具有和高分子聚合物相容性差、不對聚合物起增強作用、分解溫度低、不適于加工高于200℃的塑料制品的缺點，因此研究其粒度超細化、表面改性處理技術(shù)、協(xié)同復(fù)合技術(shù)、納米技術(shù)正成為世界各國研究者的熱點問題。

  


氫氧化鋁的超微細化增加了氫氧化鋁的表面積，使粒子表面蒸氣壓降低，明顯增強阻燃效果，同時提高材料制品的力學性能和耐熱性能。

然而，要獲得超細的氫氧化鋁助燃劑混懸液就必須使用高品質(zhì)的分散設(shè)備，傳統(tǒng)的分散設(shè)備，一方面無法將氫氧化鋁漿料進一步細化，另一方分散效果不佳。上海IKN結(jié)合多家阻燃劑廠家，可知，采用IKNCMSD2000系列研磨分散機對氫氧化鋁漿料進行進一步的研磨和分散，粒徑更小，分散更均勻。
 
            

如有疑問請致電IKN銷售工程師，IKN全體員工將竭誠為您服務(wù)！ IKN主   聶倩文    QQ   ---               

IKN研磨分散機是將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備，先研磨后分散機，因為氫氧化鋁分散到水中或者溶劑當中，會形成二級團聚體，軟團聚。需要先將團聚體打開再進行分散。IKN研磨分散機二級工作組，轉(zhuǎn)速高達14000rpm，剪切力強，分散更徹底。

CMSD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

CMSD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

      
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

  

CMSD2000系列研磨分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。


 

選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器 

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和***終產(chǎn)品的要求。

3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數(shù)，以便選型和定制。

納米材料研磨分散機,德國納米材料研磨分散機

 

設(shè)備特點

⑴CMD設(shè)備與傳統(tǒng)設(shè)備相比：

高效、節(jié)能

傳統(tǒng)設(shè)備需8小時的分散加工過程，CMD設(shè)備1小時左右完成，超細分散效果顯著，能耗*降低；

高速、高品質(zhì)

傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn)，帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi)，只完成宏觀分散加工，超細分散能力極為有限；ERS設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000～15000轉(zhuǎn)之間，超高線速度產(chǎn)生的剪切力，瞬間超細分散漿料中的粉體。

⑵CMD設(shè)備與同類設(shè)備相比：

多層多向剪切分散

同類設(shè)備的定轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一，多級多層的結(jié)構(gòu)是單純重復(fù)性加工，相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過工作腔的短路現(xiàn)象；

CMD設(shè)備的定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切概念，裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向剪切分散，杜絕了短路現(xiàn)象，超細分散更為徹底。