碳納米管導電涂料研磨ji
產(chǎn)品型號: |
CMSD2000 |
品 牌: |
ikn |
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所 在 地: |
上海松江區(qū) |
更新日期: |
2024-10-29 |
| 型號:CMSD2000 | | 品牌:ikn | | 工作方式:顆粒研磨機 | |
| 適用物料:導電涂料 | | 應用領(lǐng)域:導電涂料 | | 加工批量:1000 | |
| 驅(qū)動功率:22 kw | | 研磨籃容量:1000 | | 介質(zhì)尺寸:1000 | |
| 行程:1000 | | 外形尺寸:1X1X2 m | | 重量:600 kg | |
| 驅(qū)動方式:電動 | | 作用對象:鋸刀 | | 材質(zhì):316 | |
| 電壓:380 | | 作用對象:鋸刀 | | 材質(zhì):316 | |
碳納米管導電涂料分散機,碳納米管導電涂料研磨設(shè)備,碳納米管隱身涂料研磨設(shè)備, 碳納米管吸波涂料,碳納米管漿料分散機,導電涂料分散機,涂料分散機,碳納米管涂料分散機,碳納米管導電涂料專用設(shè)備
研磨設(shè)備是研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒完全被分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。
碳納米管導電涂料研磨設(shè)備
分散設(shè)備
(1)超聲波分散設(shè)備:非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散石墨烯,用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制,而且處理量比較小,不適合規(guī)模生產(chǎn)
(2)砂磨機:能夠均勻的細化碳納米管的粒徑,但是工作時間長,耗材更換成本高,
(3)采用研磨分散機“先把抱團粒徑打開,還原物料的原始粒徑,再把物料進步細化”組合方法,可以高效、穩(wěn)定地研磨分散碳納米管導電涂料 得到理想的物料
IKN石墨烯研磨設(shè)備采用xx的高速研磨分散技術(shù),通過超高
轉(zhuǎn)速(***高可達14000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點可以得出理想的碳納米管導電涂料。
碳納米管以分數(shù)體形式加入涂料中,在分散體中通過添加潤濕劑和分散劑,并且在分散設(shè)備的作用下,使碳納米管均勻、穩(wěn)定的分散中涂料基質(zhì)當中,從而改性涂料的性能。更多信息請聯(lián)系聶倩文 ,公司有樣機可提供免費實驗。
碳納米管分散到涂料基料中,分散的越好,涂料的導電性能才會越高。在選擇合適的潤濕劑和分散劑的同時,分散設(shè)備的選擇也至關(guān)重要。好的分散設(shè)備會更好、更快的將碳納米管分散到涂料中,更加均勻、穩(wěn)定。上海IKN*于碳納米管、石墨烯、富勒烯分散設(shè)備的研發(fā)和生產(chǎn),并且在深圳、成都、常州、寧波等多家企業(yè)有著成功的案例。如:碳納米管分散到涂料中,碳納米管分散到水中,碳納米管分散到NMP中,在導電涂料和鋰電池負極材料中都有著巨大的優(yōu)勢。
IKN碳納米管導電涂料研磨分散設(shè)備有很高的線速度,以及特殊上深下淺的三級磨頭結(jié)構(gòu),一次處理即可滿足細化要求。*級刀頭形狀,可以把相對大塊的物料進行初步粉碎,以便能順利通過更細的兩級進行細微化研磨。磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下淺的齒列結(jié)構(gòu),相較溝槽是直線,同級的溝槽深度一樣的磨頭,可以保證物 料從上往下一直在進行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級磨齒,但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。并且第二級為分散工作頭,可以進行更充分的分散。先研磨后分散效果更佳,效率也更高。
CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到***低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
CMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送。CMD2000研磨分散機標準配置所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼。CMD2000研磨分散機腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。
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