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石墨烯的制備方法

    自石墨烯被發(fā)現(xiàn)以來(lái)，科研人員為能批量穩(wěn)定地制備石墨烯付出了巨大努力并取得了階段性成果。石墨烯制備方法主要有:
(1)晶體外延生長(zhǎng)法，該法是在極高的真空度下將單晶碳化硅襯底加熱至1200～1600℃，使襯底中的硅原子升華析出，過(guò)量的碳原子留在基底并重構(gòu)生成石墨烯，這是目前公認(rèn)的***有可能實(shí)現(xiàn)工業(yè)化的方法之一;
(2)化學(xué)氣相沉積法(CVD)，該法將甲烷等含碳化合物在基底上進(jìn)行高溫分解而重構(gòu)生成石墨烯，然后除去金屬基底得到石墨烯;
(3)化學(xué)氧化－還原法，目前以該法制備

    氧化石墨主要有3種途徑，即Brodie法、Staudenmaier法及Hummers法。前兩者會(huì)產(chǎn)生ClO2氣體，Hummers氧化還原法反應(yīng)時(shí)間短，產(chǎn)品純化步驟簡(jiǎn)單，因此目前的制備方法多基于Hummers氧化還原法。
Hummers氧化還原法制備過(guò)程概括為:
①向強(qiáng)酸和強(qiáng)氧化劑混合液加入石墨，反應(yīng)得到氧化石墨;
②借助外力剝離得到氧化石墨烯(GO);
③通過(guò)化學(xué)還原、熱還原等方法將氧化石墨烯還原得到還原的氧化石墨烯(rGO)。

    上述3種制備方法中，使用CVD法制得的大面積石墨烯片層可以直接覆蓋在金屬表面用作防腐、保護(hù)涂層，而化學(xué)氧化－還原法則在涂料領(lǐng)域中更為常用。這是由于在氧化的過(guò)程中，將活性含氧基團(tuán)引入到石墨烯上，為以后的功能化改性提供了活性反應(yīng)位點(diǎn)，豐富了功能化改性的手段，從而有效提高改性GO與溶劑、聚合物的相容性。

石墨烯漿料的制備方法
（1）超聲波分散設(shè)備：非常適合實(shí)驗(yàn)室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散石墨烯，用于中、高粘度介質(zhì)時(shí)會(huì)受到限制，而且處理量比較小，不適合規(guī)模生產(chǎn)
（2）砂磨機(jī)：能夠均勻的細(xì)化石墨烯的粒徑，但是工作時(shí)間長(zhǎng)，而且容易破壞石墨烯的原子機(jī)構(gòu)，耗材更換成本高，
（3）采用研磨分散機(jī)“先把抱團(tuán)粒徑打開(kāi)，還原物料的原始粒徑，再把物料進(jìn)步細(xì)化剝離”可以高效的得到理想的石墨烯漿料

石墨烯研磨分散機(jī)是研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒完全被分離（separating）、潤(rùn)濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

石墨烯漿料分散技術(shù)三要素
二、分散劑用量推薦
三、石墨烯 水分散劑概述
四、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實(shí)例
五、研磨分散設(shè)備使用建議
石墨烯 分散技術(shù)三要素：分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備

ikn石墨烯研磨分散機(jī)是由研磨機(jī) 和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。 
    *級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
IKN石墨烯研磨設(shè)備采用xx的高速研磨分散技術(shù)，通過(guò)超高
轉(zhuǎn)速（***高可達(dá)14000rpm）帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細(xì)的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。
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